No abstract

Проведены исследования начальных стадий роста пленок ниобата лития на Si в процессе ВЧМР, исследовано влияние условий ВЧМР и последующих обработок (ТО, ИФО, БТО) на структуру, субструктуру и ориентацию получаемых покрытий. Установлено, что начальные стадии роста пленок ниобата лития в процессе ВЧМР на подогретой до 550 °С Si подложке характеризуются островковым зарождением кристаллитов и последующей их коалесценцией. Показана возможность управления текстурой пленок ниобата лития в процессе ВЧМР в условиях воздействия плазмы ВЧ-разряда, путем изменения состава рабочего газа. Показан эффект ИФО в кристаллизации аморфных пленок состава ниобата лития, заключающийся в формировании однофазной нанокристаллической пленки ниобата лития, в процессе обработки на воздухе.   ИСТОЧНИК ФИНАНСИРОВАНИЯ Исследование выполнено при финансовой поддержке РФФИ, проект № 18-33-00836.