La industria electrónica ha crecido en los últimos cincuenta años, sobre todo en los países desarrollados, contribuyendo a su progreso económico. Particularmente en el Estado de Baja California ubicada en el noroeste de México, estas empresas han prosperado en los parques industriales de Mexicali considerada como una zona árida y Ensenada, un puerto y ciudad en el Océano Pacífico, que es una región marina. En ambos ambientes, durante el invierno y el verano los principales factores climáticos en ambientes de interiores son la humedad y temperatura, que aunados a los contaminantes del aire generan corrosión en dispositivos y equipos electrónicos, disminuyendo su rendimiento operativo. El cambio de clima en interiores de plantas industriales se debe a la variación de humedad, temperatura, radiación solar, así como a la concentración de contaminantes atmosféricos como el CO, SO2, H2S, NOX, O3 y partículas sólidas PM2.5 y PM10 provenientes de exteriores de la industria electrónica. Los gases y partículas contaminantes del aire son detectados por Estaciones de Monitoreo Ambiental (EMA) en Mexicali, mientras, que el SOX y Cl- se determinaron en Ensenada por la técnica de platos de sulfatación (TPS) y el método de la vela húmeda (MVH). Las probetas metálicas en ambas ciudades fueron analizadas por microscopia de barrido por electrones (MBE) y espectroscopia de electrones Auger (EEA) para determinar los productos de corrosión. Los equipos electrónicos instalados en las plantas están constituidos por componentes de cobre, siendo un metal muy utilizado por su buena conductividad eléctrica y térmica. Debido a que están expuestos a una amplia gama de ambientes agresivos, se origina deterioro del cobre, generando fallas en los equipos y con ello pérdidas económicas. Los materiales metálicos utilizados en los dispositivos electrónicos son susceptibles a la corrosión en interiores de plantas industriales por la variaciones de humedad y temperatura que generan el tiempo de humectación (TH), originando formación de una película delgada de agua sobre la superficie metálica, además de la exposición principalmente de sulfuros en Mexicali y cloruros en Ensenada, generan el proceso de corrosión.
Hydrogen sulphide (H2S) is considered one of the most corrosive atmospheric pollutants. It is a weak, diprotic, reducing acid, readily soluble in water and dispersed into the air by winds when emitted from natural, industrial, and anthropogenic sources. It is a pollutant with a high level of toxicity impairing human health and the environment quality. It attacks copper forming thin films of metallic sulphides or dendrite whiskers, which are cathodic to the metal substrate, enhancing corrosion. H2S is actively involved in microbially influenced corrosion (MIC) which develops in water, involving sulphur based bacteria, in oxidizing and reducing chemical reactions. H2S is found in concentrated geothermal brines, in the atmosphere of geothermal fields, and in municipal sewage systems. Other active atmospheric pollutants include SOX, NOX, and CO. This investigation reports on the effects of H2S on copper in microelectronic components of equipment and devices, with the formation of nonconductive films that lead to electrical failures.
Se realizó un análisis del uso de tres metales principales como lo son el cobre, cromo y níquel, que se aplican como proceso de deposición para protección de aceros ante la presencia de ambientes agresivos en interiores de la industria metalmecánica ubicada en Mexicali y que fabrica productos de acero. Aun con la aplicación de los métodos de cobreado, cromado y niquelado, en los procesos de manufactura se presentaba el proceso de corrosión en menor grado. El análisis se realizó en el año 2013 en la empresa señalada donde los factores principales de la generación de corrosión fueron la humedad y temperatura como variables climáticas, aunadas a los niveles de bióxido de azufre (SO2) como parámetro ambiental. Además, se evaluó la funcionalidad de la protección en los productos con aceros para evitar la generación de corrosión con análisis de microscopía de barrido electrónico (MBE).
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