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La technique de purification du silicium sous plasma therrnique perrnet d'aboutir h un matdriau de puretd chimique requise pour l'industrie photovoltiique. Dans ce travail, nous soulignerons le r61e de l'hydrogbne intervenant dans les propridtds du plasma en rappelant les caract£ristiques des plasmas Ar-H~utilisds pour fondre et purifier le silicium. Les caractdristiques physico-chimiques du silicium purifi£ montrent que l'hydrogbne diffuse dans le matdriau et est en mesure de cicatriser les ddfauts cristallins par formation de liaisons chimiques stables de type Si-H.

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