Cet article présente les résultats d'études du rôle de l'incorporation d'hydrogène par plasma à 430 °C sur les caractéristiques électriques de photopiles préparées sur rubans RAD. Les performances des photopiles ont été caractérisées par le relevé de caractéristiques I (V) sous différents éclairements et de profils de photoréponse locale obtenus en mode LBIC ; la localisation de l'hydrogène ségrégé a été effectuée par autoradiographie sur des échantillons chargés en tritium. On met en évidence une neutralisation partielle des centres pièges dans le volume du matériau - corroborée par une forte ségrégation de l'hydrogène - et une passivation des interfaces, notamment des sous-joints de grains. Ces travaux montrent que l'incorporation d'hydrogène est envisageable pour améliorer les performances des photopiles RAD