Запропонований розрахунковий метод визначення величини експозиції фото по лімеризаційноздатного матеріалу, необхідного для формування прихованого рель єфного зображення на фотоформі.На відміну від використовуваних сьогодні досліджуваних методів визначення величини необхідного часу експонування, такий метод дає змогу істотно ско ро тити витрати для оцінки величини експонування. Крім того, на підставі цього ме тоду створена програма розрахунку часу експонування залежно від різних па раметрів фотоформи.Найбільш відповідальною стадією технологічного процесу виготовлення фо тополімерних друкарських форм (ФПФ), що визначає їх якість, є опромінювання фотополімеризаційноздатних пластин (ФПП), протягом якого відбувається фо то ініційована полімеризація в шарі фотополімеризаційноздатної композиції (ФПК) і, як наслідок, формування прихованого рельєфного зображення, яке потім про яв ляється на стадії вимивання ФПФ. Тривалість процесу опромінювання (тобто ве личина експозиції) залежить, зокрема, від світлочутливості ФПК, спектрального складу та інтенсивності світла, якості й складності фотоформи.Ключові слова: фотополімерна друкарська форма (ФПФ), рельєфне зобра жен ня, експонування, опромінювання, поверхневий шар.

Abstract. We propose the concept of the spherical (or «ball-shaped») compounds. In this communication we are considered NMR 1 H spectra of 53 «spherical pentanes» -saturated hydrocarbons with a maximum length of the chain of five carbon atoms [from simplest n-pentane to most complicated tetra-(tert-butyl)methane]. The conception of the spherical alkane structure includes: a) a central carbon atom of the whole molecule (С 3 ); b) two, three or four carboncontaining branches attached to it. These include monocarbonic methyl (Me) and dicarbonic (longest chain) Et, Pr i , Bu t -fragments; c) one or two branches may be the hydrogen atoms. The central atom (С 3 ) is surrounded by three layers, called: a) inner -α-layer, b) intermediate -β-layer, and c) the outer -γ-layer, which is often referred to -ω-layer. The inner and intermediate layers may contain both carbon and hydrogen atoms, but the outer layer contain only hydrogen atoms. We consider several types of alkanes sphericity: «quasi-spherical», «minimally-spherical», and «maximally-spherical», as well as linear (n-pentane) and «quasi-linear». The values of proton chemical shifts in spherical alkanes depend on the location of the studied hydrogen atoms in a certain layer. The number of hydrogen atoms in the outer ω-layer (H ω ) and the uniformity of their distribution in the volume of this outer layer (which depends on the type of alkane sphericity) have a significant influence on the proton chemical shifts. When parameter H ω = 12 (or 15) we observe the maximal upfield signals shift of all studied protons (except the methyne hydrogens of isopropyl group). With further growth of H ω an increase of the chemical shifts (downfield shift) observed. When H ω = 12 (or 15) for the methyl groups of ethyl fragments in the maximally-spherical compounds observed the highest upfield shift. The same applies to methylene groups of ethyl fragments.To explain these results, the hypothesis, assuming the interaction to each other of three (or especially four) carboncontaining branches, radiating from the central carbon atom С 3 in spherical molecules proposed. This interaction, in our opinion, causes the observable upfield shift of the methyl, methylene or methyne proton's signals and is similar to the proposed earlier interaction of two or three heteroatoms in the case of «anomeric effect» in CHXYZ compounds with gemlocation of heteroatoms X, Y, Z.Key words: «spherical («ball-shaped») pentanes»; central carbon atom of molecule (С 3 ); carboncontaining branches; ω-layer; types of alkanes sphericity: «quasi-spherical», «minimally-spherical», and «maximally-spherical», number of hydrogen atoms in the outer ω-layer (H ω ).2

Дослідження в галузі сенситометрії фотополімеризаційноздатних матеріалів (ФПМ) почалися практично одночасно з роботами з їх створення. Перші статті на цю тему опубліковані ще в середині 50х років [1,2], їх автори адаптували методику сенситометрії традиційних срібломістких фотоматеріалів до оцінки світлочутливості ФПМ за допомогою простої й очевидної заміни функції відгуку на світловий вплив: замість залежності оптичної густини негативу від його енер гетичної експозиції запропоновано визначати залежність товщини шару за полімеризованого ФПМ від величини його експозиції.Ключові слова: світлочутливість, рельєфоутворення, експонування, спектральний склад.Постановка проблеми. Різноманітність методів визначення світлочутливості ФПМ зумовлена багатьма причинами, а саме: відмінностями фізичних властивостей досліджуваних матеріалів, необхідною точністю тестування, доступністю, від творюваністю і оперативністю методик. Вибір конкретної методики оцінки світ ло чутливості визначається насамперед метою дослідження.Аналіз останніх досліджень та публікацій. Для вивчення кінетики і механізмів фотохімічних перетворень компонентів ФПМ використовують спектроскопічні, оптичні, ділатометричні, електрометричні, фізико-механічні та інші методи [3][4][5][6]. Водночас і через складності та високу вартость такі методи найчастіше не на даються для оперативних технологічних досліджень і виробничого тестування ФПМ. Найпоширенішим методом оцінки світлочутливості ФПМ у виробничих умовах залишається використання тест-негативів [7]. Популярність цього методу визначається простотою і доступністю, та, на жаль, його результати мають лише напів кількісний характер. Деякі методи дають змогу виконувати кількісну оцінку па раметрів світлочутливості ФПМ, відповідно до їх характеристичних кривих, по бу дованих на основі геометричних [8, 9] або гравіметричних [10] вимірювань. Перевага таких методів у відносній простоті вимірювання геометричних розмірів або маси шару ФПМ, утвореного під дією світла.Оцінка світлочутливості рельєфоутворювальних ФПМ, тобто їх сенсито мет рія, здебільшого є частиною узагальненої задачі -визначення механізму фор мування прихованого зображення або неізотропних за фізичними та хіміч ни ми властивостями ділянок, котрі мають границі розділу фаз. Зазвичай мікрогетерогенні структури

No abstract