2001
DOI: 10.1051/jp4:2001722
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Étude d'une nouvelle source optique UV-VUV basée sur une décharge multicanaux de forte puissance

Abstract: Résumé : Une nouvelle source plasma VUV de grande dimension (20 x 50 cm 2 ) et de forte température de brillance (T > 30 000 K) dans le domaine du VUV est présentée. Cette source constitue le moyen de pompage d'un amplificateur pour laser femtoseconde dans le domaine du visible.

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