Focused Ion Beams in Microelectronic Fabrication

Doherty, John A.; Ward, Billy; Kellogg, E.

doi:10.1109/tchmt.1983.1136179

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“…Cependant, les prototypes existants de machines à écriture directe par faisceaux d'ions focalisés ne disposent encore que d'une vitesse d'écriture dix fois plus petite que celle des masqueurs électroniques à faisceau gaussien du commerce [20]. Au cours de cette étude, nous avons vérifié par une méthode originale la haute résolution de la lithogra-REVUE DE PHYSIQUE APPLIQUÉE.…”

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Lithographie par faisceaux d'ions : simulations et résultats expérimentaux

Karapiperis¹,

Dubreuil²,

David³

et al. 1985

Rev. Phys. Appl. (Paris)

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“…Au cours de cette étude, nous avons vérifié par une méthode originale la haute résolution de la lithogra-REVUE DE PHYSIQUE APPLIQUÉE. -T. 20, No 2, FÉVRIER 1985 phie ionique aux ions légers en dupliquant dans une couche de PMMA des trous de 50 nm à 60 nm de diamètre.…”

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