Formação e caracterização de filmes de silício amorfo hidrogenado depositado por ECR-CVD

Abstract

A ata de defesa, com as respectivas assinaturas dos membros da Comissão Julgadora, encontrase no processo de vida acadêmica do aluno.Dedico este trabalho à minha mãe Frâncis, ao meu pai Chertertom, à minha avó Maria Júlia e à minha irmã Natália, que me ajudaram e me deram suporte durante toda a minha jornada Agradecimentos Gostaria de agradecer primeiramente aos meus pais, Frâncis e Chertertom, minha irmã Natália e minha avó Maria Júlia, por toda a ajuda durante a minha graduação e durante o meu mestrado.A dona Maria de Lurdes por ter estado sempre presente como apoio para a minha família.Ao meu orientador José Alexandre Diniz, pela oportunidade, pelos conselhos dados durante a realização deste trabalho, a ida ao congresso internacional AVS e as ajudas na confecção deste trabalho.