1973
DOI: 10.1143/jjap.12.1267
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Impurity Profile Determination in Epitaxial GaAs Crystals on High-Resistivity Substrates

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“…Nous avons tracé en figure 3 les variations de la quantités -a V en fonction de la variable ao 03B5s/C*, où eo es est la constante diélectrique de l'arséniure de gallium, q là charge de l'électron et C* et la capacité C ramenée à l'unité de surface. Il est généralement admis que cette courbe représente le profil de dopage apparent de la couche [9,10].…”
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“…Nous avons tracé en figure 3 les variations de la quantités -a V en fonction de la variable ao 03B5s/C*, où eo es est la constante diélectrique de l'arséniure de gallium, q là charge de l'électron et C* et la capacité C ramenée à l'unité de surface. Il est généralement admis que cette courbe représente le profil de dopage apparent de la couche [9,10].…”
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“…Ensuite elles se translatent selon l'axe des courants drain d'une quantité dépendant de la polarisation de substrat comme le montre l'expression (9) du courant écrite sous la forme : Ce résultat est conforme à l'observation expérimentale (Fig. 4).…”
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