Produção e caracterização de filmes finos de TiO₂

Abstract

Gostaria de agradecer a todos que fizeram parte direta ou indiretamente para a realização desse trabalho. Ao meu Orientador Chubaci, pela paciência, pelo carinho e por todo o apoio durante essa longa jornada, desde os idos tempos da graduação. Ao Professor Ronaldo Mansano pela participação na produção das amostras no sistema de RF magnetron sputtering. À professora Márcia Fantini e ao Antônio Carlos, por todo a atenção e ajuda. Aos funcionários do LAMFI, pelo apoio técnico em especial ao Cleber, por toda contribuição e aprendizado que me ofereceu. Aos meus amigos de tantos anos de IFUSP Renato, Henrique, Artur, Danilo, Thales e tantos outros que não caberiam aqui, que me acompanharam por toda essa trajetória dando todo apoio, sem vocês nada disso teria sido possível. Às minhas amigas Flávia, Emanuelle, Karolyne, por todo apoio, torcida e anos de amizade. A todos aquelas pessoas que a vida me trouxe, não por acaso, sem vocês eu não teria chegado onde cheguei. Às tantas outras pessoas que não citei, agradecerei pessoalmente. Ao CNPq pelo apoio financeiro.