Universalidade e leis de escalas em amostras de silício atacadas quimicamente

Abstract

Nesta página devo caprichar muito. Eu diria que é a melhor parte e ao mesmo tempo a parte mais delicada da tese, pois quero deixar escrito todos os meus sentimentos e o meu "muito obrigada"à todos que, de uma forma ou de outra, contribuiram para que este trabalho chegasse ao fim. Ao Maurício... meu orientador. Obrigada pela orientação, paciência, vontade, dinamismo... sempre presente nos momentos que precisei de sua opinião, apoio e que muito contribuiu para que juntos pudéssemos realizar este trabalho. Pela amizade, por ter contribuido no aperfeiçomento do meu modo de ver o mundo de forma diferente ou distinta (?)... rs, na sua verdadeira dimensão, medida com os olhos da alma. Um muito obrigada fractalático, auto-similarítico, auto-afinítico, criticalítico, rugositético, crescimentítico, dinamicolético, escalonático, morfologélico, percolinático, difusionítico, anisotropético, correlacionático e universalítico!!!! À minha família... embora estando distante sempre se fez presente de alguma maneira... amo vocês!!!! À Lu... minha miga de todas as horas. Pela nossa amizade! À todos do Lab. de Nanoestruturas e Interfaces: ao Prof. Omar Teschke, aos técnicos Luigi (Luiz O. Bonugli) e Zé (José Roberto de Castro), ao Prof. David M. Soares, à Bete, ao Francisco e ao Edilson. Pelas conversas e carinho enorme que tenho por vocês. Muito obrigada por tudo! Aos colegas e amigos de fé irmãos camaradas: Cello (Marcelo), Juiv liano, Eliana e Gabriel (que aqui chegamos juntos) e ao Jeferson (que já estava aqui), Alexandre (Cabelo),