30th European Solid-State Device Research Conference 2000
DOI: 10.1109/essderc.2000.194842
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

200GHz SiGe Hetero Bipolar Transistor Design

Abstract: This paper present the design of a f T =200GHz SiGe Hetero Bipolar Transistor (HBT). A simple set of analytical equations describe the high frequency characteristics guaranteeing at the same time an easy understanding of the physics behind them . In detail the transit or delay times are analysed and the transistor design is optimized. Limitations and validity problems are pointed out.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1

Citation Types

0
1
0
1

Year Published

2001
2001
2013
2013

Publication Types

Select...
4
2

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 7 publications
(2 citation statements)
references
References 4 publications
0
1
0
1
Order By: Relevance
“…Merencanakan profil doping HBT SiGe acuan yang sesuai dengan data eksperimen HBT SiGe buatan IBM pada arah vertikal [12] , dengan beberapa penyesuaian yang dilakukan antara lain,. Pertemuan antara poli-Si (polysilicon) dan mono-Si (single crystal silicon) ditandai dengan adanya tekukan pada daerah pertemuan, dalam hal ini tekukan tersebut dianggap tidak aktif secara elektrik kemudian konsentrasi doping polisilikon 10 21 cm 3 serta pertemuan antara bahan tipe-n yang diberi doping As dan tipe-p yang diberi doping B, kemiringan profil doping emiter dalam simulasi diatur agar berpotongan dengan profil doping basis pada daerah lekukan seperti diperlihatkan pada Gambar 5, dengan garis yang berwarna adalah pendekatan model yang dilakukan.…”
Section: Hasil Dan Pembahasanunclassified
“…Merencanakan profil doping HBT SiGe acuan yang sesuai dengan data eksperimen HBT SiGe buatan IBM pada arah vertikal [12] , dengan beberapa penyesuaian yang dilakukan antara lain,. Pertemuan antara poli-Si (polysilicon) dan mono-Si (single crystal silicon) ditandai dengan adanya tekukan pada daerah pertemuan, dalam hal ini tekukan tersebut dianggap tidak aktif secara elektrik kemudian konsentrasi doping polisilikon 10 21 cm 3 serta pertemuan antara bahan tipe-n yang diberi doping As dan tipe-p yang diberi doping B, kemiringan profil doping emiter dalam simulasi diatur agar berpotongan dengan profil doping basis pada daerah lekukan seperti diperlihatkan pada Gambar 5, dengan garis yang berwarna adalah pendekatan model yang dilakukan.…”
Section: Hasil Dan Pembahasanunclassified
“…The silicon germanium (SiGe) heterobipolar transistor (HBT) [1] enlarged tremendously the frequency domain of silicon based microelectronics. Several commercial producers offer SiGe-HBTs with 125-250 GHz transit frequency (f T ), the highest research climbed to a half terahertz f T -values [2].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%