2017
DOI: 10.1142/s021798491750021x
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

A nucleation and growth model of silicon nanoparticles produced by pulsed laser deposition via Monte Carlo simulation

Abstract: We simulated the nucleation and growth of Si nanoparticles produced by pulse laser deposition using Monte Carlo method at the molecular (microscopic) level. In the model, the mechanism and thermodynamic conditions of nucleation and growth of Si nanoparticles were described. In a real physical scale of target-substrate configuration, the model was used to analyze the average size distribution of Si nanoparticles in argon ambient gas and the calculated results are in agreement with the experimental results.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2020
2020
2023
2023

Publication Types

Select...
3

Relationship

0
3

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(1 citation statement)
references
References 17 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…наночастиц. В последние годы наряду с методом молекулярной динамики метод Монте-Карло также активно применяется в процессе моделирования структурных превращений в наночастицах и наноструктурных материалах [1][2][3][4][5][6][7][8][9][10][11]. Совершенствование расчетной схемы [12] позволяет нивелировать недостатки метода Монте-Карло по сравнению с другими методами моделирования.…”
Section: Introductionunclassified
“…наночастиц. В последние годы наряду с методом молекулярной динамики метод Монте-Карло также активно применяется в процессе моделирования структурных превращений в наночастицах и наноструктурных материалах [1][2][3][4][5][6][7][8][9][10][11]. Совершенствование расчетной схемы [12] позволяет нивелировать недостатки метода Монте-Карло по сравнению с другими методами моделирования.…”
Section: Introductionunclassified