An analysis of the thermal decomposition of tetraethoxysilane by gas chromatography

Heunisch, George W.

doi:10.1016/s0003-2670(01)85507-0

Cited by 11 publications

(3 citation statements)

References 3 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Much effort has been spent on the decomposition routes and mechanisms of the most common precursors, like aluminium tri-iso-propoxide (ATI) [4,5] and tetraethyl orthosilicate (TEOS) [6,7]. For example, Nandi et al…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

See 1 more Smart Citation

The pyrolytic decomposition of metal alkoxides(di-acetoxy-di-t-butoxy-silane, DADBS) during chemical vapour deposition of thin oxide films

et al. 1993

View full text Add to dashboard Cite

In this study the effects of the nature of metal alkoxides on their vapour pressures and thermal decomposition chemistry are reported. The vapour pressure and the volatility of a metal alkoxide strongly depends on the steric effect of its alkoxy group.The thermal decomposition chemistry of one metal alkoxide (di-acetoxy-di-t-butoxysilane, DADBS) has been studied by mass spectrometry at temperatures between 423 and 923 K. The pyrolytic products were acetic acid anhydride and 2-methyl propene. The acetic acid anhydride is formed at temperatures above 473 K and 2-methyl propene is formed above 673 K by a P-hydride elimination mechanism. In these steps, a 6-ring intermediate is supposed to be formed. The silicon acid finally remaining is proposed to react by poly-condensation to SiOz coatings or powder.

show abstract

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

“…SiO, coatings are often prepared by MOCVD with TEOS as the precursor [6,7]. This compound requires, however, rather high deposition temperatures (about 1073 K).…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

The pyrolytic decomposition of metal alkoxides(di-acetoxy-di-t-butoxy-silane, DADBS) during chemical vapour deposition of thin oxide films

et al. 1993

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Μία πιθανή εξήγηση για το συγκεκριμένο γεγονός είναι ότι το στρώμα εναπόθεσης αναπτύσσεται με ένα μορφοκλασματικό τρόπο συσσωμάτωσης (cluster-like ή "tree-like") μάλλον παρά ως λείο στρώμα. 93,231…”

Section: χρόνος έκθεσης σε ατμούς Teos [ώρες]unclassified

Ανάπτυξη Σύνθετων Μεμβρανών Νανοδομών Άνθρακα Και Πυριτίου Για Το Διαχωρισμό Μειγμάτων Αερίων Και Μελέτη Νανοδομών Άνθρακα Για Την Αποθήκευση Υδρογόνου

Λαμπρόπουλος¹

View full text Add to dashboard Cite

Η ανάθεση του θέματος έγινε από τον Δρ. Νικόλαο Κανελλόπουλο, προς τον οποίο εκφράζω τις ειλικρινείς μου ευχαριστίες για την ένταξή μου στο Εργαστήριο και την επίβλεψή του κατά τη συνολική διάρκεια των μεταπτυχιακών σπουδών μου, που ξεκίνησαν τον Οκτώβριο του 2003, καθώς και για τη συνολική προσφορά του. Θα ήθελα επίσης να απευθύνω θερμές ευχαριστίες στον Ερευνητή Γ΄ Δρ. Γεώργιο Ρωμανό, για την πολύπλευρη και ανεκτίμητη συμβολή του στην οργάνωση μεγάλου μέρους της εργασίας, την επίλυση ποικίλων πειραματικών δυσχερειών, τις πολύτιμες συμβουλές του σε θέματα εκτέλεσης πειραματικών τεχνικών και τη συμπαράστασή του και πάνω απ' όλα για την άριστη συνεργασία μας, κατά τη συνολική διάρκεια των μεταπτυχιακών σπουδών μου. Επίσης, ουσιαστική υπήρξε η βοήθεια σε θέματα πειραματικής φύσης και από άλλα μέλη του εργαστηρίου και συγκεκριμένα από τον Ερευνητή Γ΄ Δρ. Φώτη Κατσαρό, τους Δρ. Γεώργιο Καρανικολό και Σέργιο Παπαγεωργίου και τους υποψήφιους διδάκτορες Γεώργιο Πιλάτο, Ευάγγελο Κούβελο, Ελένη Βερμίσογλου και Μένια Βεζύρη, προς τους οποίους εκφράζω ιδιαίτερες ευχαριστίες. Παράλληλα εκφράζω τις ευχαριστίες μου στην Αναπληρώτρια Καθηγήτρια Δρ. Βασιλική Χαβρεδάκη και τους Καθηγητές Δρ. Κυριάκο Βύρα και Δρ. Ιωάννη Σάμιο του Εργαστηρίου Φυσικοχημείας του Τμήματος Χημείας του Εθνικού και Καποδιστριακού Πανεπιστημίου Αθηνών, για τις εύστοχες παρατηρήσεις, τις συμβουλές και τη συμβολή τους στη διαμόρφωση με άρτιο τρόπο της τελικής μορφής της διδακτορικής διατριβής. Στο σημείο αυτό σημειώνεται η καθοριστική συνεισφορά της Γενικής Γραμματείας Έρευνας και Τεχνολογίας με την παροχή οικονομικής υποστήριξης, μέσω του προγράμματος ΠΕΝΕΔ 2003, Πράξη (Έργο) 03ΕΔ, κωδικός υποέργου 181. Τέλος, θα ήθελα να ευχαριστήσω ιδιαίτερα την οικογένεια μου, για την ανεκτίμητη βοήθεια και συμπαράστασή της, καθώς και τους ανθρώπους του συγγενικού μου περιβάλλοντος για την αμέριστη ηθική τους συμπαράσταση.

show abstract

Activation energies in chemical vapour deposition kinetics of SiO2 films using TEOS chemistry

Pavelescu¹,

Kleps²

1990

Thin Solid Films

View full text Add to dashboard Cite

An analysis of the thermal decomposition of tetraethoxysilane by gas chromatography

Cited by 11 publications

References 3 publications

The pyrolytic decomposition of metal alkoxides(di-acetoxy-di-t-butoxy-silane, DADBS) during chemical vapour deposition of thin oxide films

The pyrolytic decomposition of metal alkoxides(di-acetoxy-di-t-butoxy-silane, DADBS) during chemical vapour deposition of thin oxide films

Ανάπτυξη Σύνθετων Μεμβρανών Νανοδομών Άνθρακα Και Πυριτίου Για Το Διαχωρισμό Μειγμάτων Αερίων Και Μελέτη Νανοδομών Άνθρακα Για Την Αποθήκευση Υδρογόνου

Activation energies in chemical vapour deposition kinetics of SiO2 films using TEOS chemistry

Contact Info

Product

Resources

About