2017
DOI: 10.1134/s1063784217030173
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Analysis of structural defects in the CdSe x S1 – x nanocrystals

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1

Citation Types

0
2
0
2

Year Published

2018
2018
2023
2023

Publication Types

Select...
7

Relationship

0
7

Authors

Journals

citations
Cited by 7 publications
(4 citation statements)
references
References 16 publications
0
2
0
2
Order By: Relevance
“…The depth of the maximum content of the alloying element in the surface layer of the crystal is mainly determined by the ion energy of the impurity element [17,18]. Одним із фундаментальних напрямів використання іонної імплантації металів є формування поверхневих сплавів будь-якого складу, а їх кількісна характеристика -розподіл атомів домішкового елемента в глибині поверхневого шару металевої підкладки [1][2][3][4][5]. При вивченні внеску кожного компонента в зміну електронної структури, емісійно-адсорбційних і каталітичних властивостей багатокомпонентних металевих сплавів, створення особливо чистих металевих твердих розчинів, а також визначення фактичної концентрації легуючих елементів і їх розподілу в поверхневому шарі кристалів, мають велике значення.…”
Section: Resultsunclassified
See 2 more Smart Citations
“…The depth of the maximum content of the alloying element in the surface layer of the crystal is mainly determined by the ion energy of the impurity element [17,18]. Одним із фундаментальних напрямів використання іонної імплантації металів є формування поверхневих сплавів будь-якого складу, а їх кількісна характеристика -розподіл атомів домішкового елемента в глибині поверхневого шару металевої підкладки [1][2][3][4][5]. При вивченні внеску кожного компонента в зміну електронної структури, емісійно-адсорбційних і каталітичних властивостей багатокомпонентних металевих сплавів, створення особливо чистих металевих твердих розчинів, а також визначення фактичної концентрації легуючих елементів і їх розподілу в поверхневому шарі кристалів, мають велике значення.…”
Section: Resultsunclassified
“…Under the conditions of our experiment for niobium: atomic mass А  41 g/mol, substance density   8.4 g/cm 3 , argon ion energy Е  1 keV, and irradiation of the target surface was produced close to normal. Under these conditions, the sputtering coefficient of the substance Y  1 [4]. By increasing the argon 04026-2 pressure in the chamber, one can significantly increase the current density of Ar + ions and reduce the etching time of each monolayer.…”
Section: Description Of Objects and Investigation Methodsmentioning
confidence: 99%
See 1 more Smart Citation
“…залежність α = f (hν) має експоненціальний характер -«хвіст Урбаха», що характерно для аморфних твердих тіл[12]. Це пояснюється наявністю невпорядкованості на атомному рівні в досліджуваних структурах[13].На рис. 6 представлено частотну залежність коефіцієнта поглинання світла від енергії падаючих квантів α (hν) для склозразків системи Ag 2 S-GeS 2 -As 2 S 3 (склади зразків в табл.…”
unclassified