Atomic layer deposition of metal and metal chalcogenide thin films and nanolaminate composites.

Abstract

Vor nunmehr annähnernd fünf Jahren saß ich im Büro eines frisch berufenen Professors, zwecks einer eventuellen Pomotion und dessen Thema. Mit einer der Situation angemessenen Nervosität verfolgte ich eine 45-minütigen Präsentation, die mir -statt des erwarteten PNP-Metall-Synthese-Themas -eine maßgeschneiderte Aufgabenstellung anbot, die vermutlich ohne jede Übertreibung als "ungewöhnlich" in der Göttinger Chemie zu bezeichnen war. Der Brückenschlag der Ingineursleistung einer Reaktorkonstruktion, Synthesechemie und materialwissenschaftlichen Aspekten, bis hin zur physikalischen Betrachtung von Quasi-Teilchen in hergestellten Schichten, die Möglichkeit einer Industriekooperation und Teil des großen SFB 1073 mit all dessen Vorteilen zu sein, machen meine Entscheidung für dieses Thema zu einer der Besten meines Lebens. Mein großer Dank geht daher an Sven Schneider, für diese wunderbare Möglichkeit, ferner für vielfältige Hilfe, eine hervorragende Forschungsumgebung und weise Ratschläge. Für spannende Diskussionen und die Übernahme des Zweitgutachtens möchte ich Dietmar Stalke und Guido Clever danken. Danke an Markus für die große Hilfe während meines Projektes, vor allem dem Reaktoraufbau. Christian danke ich für ein stets offenes Ohr für meine Probleme. Dalila und Frau Stückl danke ich für die Führung durch die mir nach wie vor unverständlichen Irrwege der Bürokratie.