Agradeço ao Prof. Luiz Carlos Kretly pelo seu apoio preciso e orientação segura que muito contribuíram para realização deste trabalho.Agradeço ao Prof. José Alexandre Diniz da Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação da Unicamp, pelo valioso apoio prestado para realização dos processos de implantação iônica.Agradeço ao Prof. Lisandro do Laboratório de Preparação e Caracterização de Materiais do Instituto de Física da Unicamp, pelo seu apoio na realização da espectroscopia de difração de Raio-X nas amostras aplicada ao nossos experimentos.Agradeço ao Helder Ceragioli da Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação da Unicamp, pelo efetivo apoio na realização da espectroscopia Raman.Agradeço ao Guilherme Calligaris do Laboratório de Preparação e Caracterização de Materiais do Instituto de Física da Unicamp, pela realização da espectroscopia de difração de Raio-X no material foco deste trabalho.Agradeço ao Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologia (CCS-Nano) pelo o apoio prestado na realização dos processos de implantação iônica sem o qual não seria possível a execução deste trabalho e a contribuição valiosa dos seus seguintes membros: José Eudoxio Candido Queiroz, pelo efetivo apoio e a paciência na realização de implantações iônicas tão necessárias a este trabalho e ao Emilio Carlos Bortolucci, pela sua sempre simpatia e apoio nas orientações das atividades naquele Centro.Agradeço aos companheiros do Lab Ericsson pelo ambiente cordial e alegre, bem como, aos apoios e motivações na labuta diária dos trabalhos de pesquisa.Agradeço por fim ao bom Deus por todos os acontecimentos em minha vida, bem como, pela fé que alimenta o meu viver dentro desse difuso mundo caótico atual.
"Life exists in the universe only because the carbons atom possesses certain exceptional properties"James Jeans (1877 -1946), British Scientis.
RESUMOEste trabalho apresenta os resultados obtidos por uma implantação dupla de íons de íons de Nitrogênio em amostra de grafite. O processo de implantação dupla de íons foi realizado para observar as mudanças da resistividade em grafite devido ao bombardeamento de íons submetidos à amostra. O propósito deste processo é investigar o comportamento em diferentes direções das ligações dos átomos de carbono, a saber, direção σ das ligações dos átomos de carbono, também chamada de camada de grafeno e direção π das ligações atômicas do carbono, do ponto de vista da resistividade, bem como, mudanças na tensão Hall.Além disso, apresenta um modelo qualitativo de condução na amostra de grafite após dois bombardeamentos de íons de Nitrogênio. Os resultados aqui apresentados indicam que a medida da resistividade na direção das ligações σ dos átomos de carbono diminui e que na direção das ligações π aumenta, assim como, houve uma diminuição na tensão Hall após a dupla implantação.As amostras de grafite foram submetidas a dois procedimentos diferentes de medidas, em um deles a corrente elétrica segue a direção π dos átomos de carbono através de dois terminais de contato, que teoricamente possu...