CAPELLA : une source de rayonnement extrême UV à 13.5 nm par décharge capillaire

Sarroukh, O.; Robert, Éric; Gonthiez, T.; Thomann, Anne-Lise; Viladrosa, Raymond; Fleurier, C.; Pouvesle, Jean Michel; Cachoncinlle, Christophe

doi:10.1051/jp4:20030639

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“…5 nm. Les spectres [2] font apparaître des transitions du Xénon fortement ionisé attribuées au Xe VIII à Xe XI. Notons que les bases de données spectroscopiques font fortement défaut sur les états ioniques multichargés du Xénon.…”

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“…Nous avons aussi optimisé la décharge pour minimiser cette pollution. Les tests effectués [2] sur des échantillons en silicium cristallin placés devant la source révèlent des taux de dépôts de l'ordre de un Angström de matériau déposé par million de tirs effectués. Les observations de ces échantillons ne montrent pas d'impacts particuliers, il semble que les matériaux se déposent de façon homogène.…”

Section: Pollution Des Optiquesunclassified

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Source par décharge capillaire pour la lithographie EUV

et al. 2003

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Résumé : Dans ce travail, nous présentons les caractéristiques de la lampe à décharge capillaire Capella. Cette source de rayonnement EUV peut produire un flux de photon supérieur au Watt (2% BW, 13. 5 nm) avec un rendement à la prise de courant de plus de 0. 1%. Elle fonctionne soit en mode pulsé à 150 Hz soit en rafale en générant des trains d'impulsion au kilohertz. La stabilité spatiale de la source est meilleure que 50pu et sa stabilité temporelle atteint 0. 3%. La longévité de la source est supérieure à 10 tirs.

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