Впервые выращен эпитаксиальный теллурид кадмия толщиной 1−3 µm на кремнии с буферным слоем карбида кремния методом открытого термического испарения и конденсации в вакууме. Оптимальная температура подложки составила 500• C при температуре испарителя 580• C, время роста 4 s. Для более качественного роста теллурида кадмия на поверхности кремния предварительно был синтезирован методом топохимического замещения атомов высококачественный буферный слой карбида кремния толщиной ∼ 100 nm. Эллипсометрический, рамановский, рентгеновский и электронографический анализ показали высокое структурное совершенство слоя CdTe и отсутствие поликристаллической фазы.Работа выполнена при финансовой поддержке Российского научного фонда (грант № 14-12-01102).Исследования проводились при использовании оборудования Уникальной научной установки (УНО) " Физика, химия и механика кристаллов и тонких пленок" ФГУН ИПМаш РАН.