2017
DOI: 10.4322/2176-1523.1225
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Células Solares Finas Em Silício Tipo N: Avaliação De Diferentes Pastas Metálicas Para Contato Elétrico Da Face Dopada Com Boro

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1
1

Citation Types

0
0
0
5

Year Published

2021
2021
2023
2023

Publication Types

Select...
2

Relationship

1
1

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(5 citation statements)
references
References 9 publications
0
0
0
5
Order By: Relevance
“…A maior parte das células solares são produzidas a partir do silício grau solar, por ser um semicondutor e possuir uma elevada abundância na crosta terrestre, na forma de Quartizo (SiO2) (Moehlecke, 2017). As principais células Vol.…”
Section: Células Fotovoltaicasunclassified
“…A maior parte das células solares são produzidas a partir do silício grau solar, por ser um semicondutor e possuir uma elevada abundância na crosta terrestre, na forma de Quartizo (SiO2) (Moehlecke, 2017). As principais células Vol.…”
Section: Células Fotovoltaicasunclassified
“…Na Tabela 1 apresenta-se a sequência das etapas utilizadas para produzir as células solares em lâminas finas [14,15]. O processo é composto de etapas texturação das superfícies para reduzir a refletância, limpeza RCA para redução de contaminantes na superfície das lâminas de silício [16], deposição de boro por spin-on (usando o polyboron PBF20 da Filmtronics, EUA) e evaporação dos solventes, difusão de boro a 975 °C e oxidação a 1000 °C [17,18], deposição de resina na face com boro e ataque de óxidos com solução de HF tamponado (HF+NH 4 F), limpeza da resina com acetona+álcool isopropílico+H 2 O DI , limpeza RCA, difusão de fósforo na temperatura de 855 °C [19] e usando a menor influência de contaminantes metálicos na eficiência das células solares [4].…”
Section: Materiais E Métodosunclassified
“…A deposição de TiO 2 na face n + foi realizada antes da metalização, mas na face p + foi realizada depois desta etapa porque a pasta PV381 não perfura de forma eficaz o filme AR [14]. Na face com fósforo (n + ) depositou-se um filme AR de 80 nm e na face com boro (p + ) um filme de 70 nm de espessura [22].…”
Section: Materiais E Métodosunclassified
See 2 more Smart Citations