Characterization of a-CNx Thin Films Prepared by RF-PECVD Technique for Humidity Sensor

Abstract

In this work, amorphous carbon nitride (a-CN x ) thin films were deposited by radio frequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD Dalam penyelidikan ini, filem nipis karbon nitrida amorfus (a-CN x ) disediakan menggunakan teknik pemendapan wap kimia secara peningkatan plasma (RF-PECVD) berfrekuensi radio (RF). Kuasa RF dan kadar aliran campuran gas yang terdiri daripada metana (CH 4 ) dan nitrogen (N 2 ) dikekalkan malar, manakala jarak elektrod diubah pada 1 hingga 6 cm. Kesan perubahan jarak elektrod semasa proses pemendapan filem ke atas ikatan kimia, morfologi dan tindak balas pengesanan kelembapan filem dikaji. Pencirian menggunakan spektroskopi transformasi Fourier inframerah (FTIR) menunjukkan perubahan sistematik pada spektrum dan menunjukkan tiga puncak utama yang dikenali sebagai puncak G dan D, ikatan ganda tiga C≡N dan kumpulan C-H/O-H. Filem a-CN