2020
DOI: 10.1016/j.vacuum.2020.109373
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Charging of dielectrics under ion irradiation

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
5

Citation Types

1
4
0
3

Year Published

2021
2021
2024
2024

Publication Types

Select...
7

Relationship

0
7

Authors

Journals

citations
Cited by 13 publications
(9 citation statements)
references
References 26 publications
1
4
0
3
Order By: Relevance
“…Другим важным фактором, уменьшающим равновесное значение поверхностного потенциала, является захват вторичных электронов, сгенерированных на диафрагмах или окружающих образец деталях камеры и оборудования, положительно заряженной поверхностью. Важность учета и влияние этой проблемы продемонстрированы в работах [12,13]. Так, в публикации [14] изучался процесс зарядки массивного (не пленочного) образца кварца при облучении ионами He + с энергиями от 1 до 4 keV.…”
Section: Introductionunclassified
See 2 more Smart Citations
“…Другим важным фактором, уменьшающим равновесное значение поверхностного потенциала, является захват вторичных электронов, сгенерированных на диафрагмах или окружающих образец деталях камеры и оборудования, положительно заряженной поверхностью. Важность учета и влияние этой проблемы продемонстрированы в работах [12,13]. Так, в публикации [14] изучался процесс зарядки массивного (не пленочного) образца кварца при облучении ионами He + с энергиями от 1 до 4 keV.…”
Section: Introductionunclassified
“…Но такой метод дает лишь оценочные результаты (погрешность 50%). Другим методом измерения кинетики +V S диэлектрика в процессе облучения их пучками ионов является спектрометрический метод [12,13]. Но данный метод тяжело реализуем в современных коммерческих установках ФИП-СЭМ и требует дополнительного оборудования.…”
Section: Introductionunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Another important factor that reduces the equilibrium value of the surface potential is the capture of secondary electrons by the positively charged surface, the electrons are generated on diaphragms or parts of the chamber and equipment surrounding the sample. The importance of accounting and the effect of this problem are demonstrated in the papers [12,13]. For example, in the publication [14], the process of charging a massive (not film) quartz sample under irradiation with He + ions with energies of 1 to 4 keV was studied.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…But this method gives only estimated results (error 50%). Another method for measuring the dielectric kinetics +V S during irradiation with ion beams is the spectrometric method [12,13]. However, this method is difficult to implement in modern commercial FIB-SEM installations and requires additional equipment.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%