ChemInform Abstract: PHOTOELEKTRONENSPEKTROSKOPIE VON OBERFLAECHEN UND ADSORPTIONSSCHICHTEN

Abstract

Durch UV‐ oder Röntgenstrahlung angeregte Photoelektronenspektren von Festkörpern enthalten erhebliche Beiträge der Oberfläche. Dies läßt sich zur Untersuchung von Adsorptionsschichten verwenden. Mit UV‐Anregung (UPS) können die Valenzniveaus adsorbierter Teilchen untersucht werden; mit Röntgenanregung (XPS) lassen sich die Zusammensetzung der Oberfläche und die chemischen Verschiebungen der Rumpfniveaus von Adsorbat‐ und Substratatomen messen. Mit beiden Methoden können verschiedene Adsorptionszustände unterschieden werden. Die Messungen müssen unter sehr guten Ultravakuumbedingungen ausgeführt werden. Beispiele für diese Anwendungen werden für die Adsorptionssysteme Sauerstoff und CO auf Wolframeinkristalloberflächen diskutiert.