Solid State Circuits Technologies 2010
DOI: 10.5772/6891
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

CMOS Readout Circuit Developments for Ion Sensitive Field Effect Transistor Based Sensor Applications

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1

Citation Types

0
3
0
1

Year Published

2013
2013
2021
2021

Publication Types

Select...
4
4

Relationship

1
7

Authors

Journals

citations
Cited by 14 publications
(4 citation statements)
references
References 21 publications
0
3
0
1
Order By: Relevance
“…Furthermore, VDS and IDS should remain constant. Satisfying these conditions allowed for the measurement of ion activities (pH and Ca 2+ concentration) through the VGS voltage variation [12]. The last layer, the single-board computer, communicated with the microcontroller to collect the measured data and send the user commands, as well as configuration and setting parameters.…”
Section: Potentiometric Readout Circuitmentioning
confidence: 99%
See 1 more Smart Citation
“…Furthermore, VDS and IDS should remain constant. Satisfying these conditions allowed for the measurement of ion activities (pH and Ca 2+ concentration) through the VGS voltage variation [12]. The last layer, the single-board computer, communicated with the microcontroller to collect the measured data and send the user commands, as well as configuration and setting parameters.…”
Section: Potentiometric Readout Circuitmentioning
confidence: 99%
“…Furthermore, V DS and I DS should remain constant. Satisfying these conditions allowed for the measurement of ion activities (pH and Ca 2+ concentration) through the V GS voltage variation [12].…”
Section: Potentiometric Readout Circuitmentioning
confidence: 99%
“…Тому були використані p-канальні польові транзистори, оскільки внаслідок на-явності в окислі певного позитивного заряду, що виникає в процесі термічного окиснення кремнію і розташований поблизу межі розділу з кремнієм [18], саме в таких транзисторах не може утворюватися інверсійний вбудований канал провідності під діелектриком як актив-ної, так і пасивної областей, а тому немає не-обхідності у додаткових технологічних опера-ціях ізоляції кожного транзистору на кристалі [3,11]. Крім того, при прикладанні від'ємної робочої напруги до затвору через розчин елек-троліту виникає анодна поляризація діелек-трика, при якій його поверхня лише додатково окислюється, і таким чином не відбувається її деградація, як у випадку n-канальних ІСПТ [3,19]. В той же час для збільшення крутості перехідної характеристики затворну область було виконано зигзагоподібної форми з відно-шенням W/L=100 при довжині каналу 40 мкм, що забезпечувало достатньо високий коефіці-єнт підсилення.…”
Section: оптимізація параметрів іспт-елемен-тівunclassified
“…This implementation focus on optimum biasing current for ISFET and time-variant compensation algorithm. In [5] propose an improvement of bridge-type floating source circuit read-out circuit technique. In [6] studied the diffusion sensor interface and sensor insulation development that is more specific to the sensor element improvement.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%