2015 IEEE 15th Topical Meeting on Silicon Monolithic Integrated Circuits in RF Systems 2015
DOI: 10.1109/sirf.2015.7119867
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Comparison of substrate effects in sapphire, trap-rich and high resistivity silicon substrates for RF-SOI applications

Abstract: This paper compares insertion loss, harmonics and Q-factor of sapphire, trap-rich silicon and high-resistivity silicon substrates. The concept of substrate characteristic frequency is shown to be useful metric to evaluate substrate behavior. New methods to evaluate substrate properties are introduced using open CPW stubs and parallel plate capacitors. It is demonstrated that sapphire provides the best RF performance, while trap-rich silicon offers limited but adequate performance with a resistivity around a fe… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2017
2017
2023
2023

Publication Types

Select...
3
1

Relationship

0
4

Authors

Journals

citations
Cited by 4 publications
(1 citation statement)
references
References 3 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…Кроме того, КНС обладает лучшими изоляционными свойствами, чем КНИ, за счет наличия у последней паразитной поверхностной проводимости на границе раздела кремний-изолятор. Частично в КНИ этот недостаток решен введением дополнительного слоя, содержащего высокую плотность ловушек носителей, так называемый trap-rich layer (TR SOI) [36,38].…”
unclassified
“…Кроме того, КНС обладает лучшими изоляционными свойствами, чем КНИ, за счет наличия у последней паразитной поверхностной проводимости на границе раздела кремний-изолятор. Частично в КНИ этот недостаток решен введением дополнительного слоя, содержащего высокую плотность ловушек носителей, так называемый trap-rich layer (TR SOI) [36,38].…”
unclassified