“…Полупроводниковые микродисковые лазеры привлекают значительное внимание в качестве источников излучения для систем оптической связи, существенно более простых в изготовлении по сравнению с вертикальноизлучающими лазерами. Эпитаксиальная гетероструктура, используемая для изготовления микродискового лазера [1,2], близка к применяемой для создания торцевых лазеров традиционной конструкции, поскольку высокая добротность при малых размерах резонатора достигается в микродисковом лазере не за счет толстых распределенных брэгговских отражателей, а в результате отражения света от боковых граней. В связи с малыми латеральными размерами в микродисковых лазерах важную роль приобретает проблема безызлучательной рекомбинации носителей заряда на боковых стенках резонатора, формируемых, как правило, глубоким травлением сквозь волновод и активную область.…”