on the occasion of his 80th birthdayThe description of defects (impurities, surfaces, etc.) in the framework of empirical tight-binding method (ETBN) suffers from the drawback that already the 'IIB parameters of the unperturbed crystal are not uniquely defined when obtained from pure fitting to existing band structures. Such an uncertainty enters the defect model via both, the unperturbed problem itself and the defect potential. It is suggested to overcome these difficulties by determining the diagonal TB parameters and orbital populations always self-consistently. I n the present paper and as the first step a method is developed to construct such charge self-consistent TB parameter sets for the pure crystal within the framework of a special fitting procedure including up to second-nearest neiglibour interactions. With this additional self-consistency requirement band structures are obtained being even better than those calculated from other parameter sets. The method is applied to the 111-V compound semiconductors Gap, GaAs, GaSb, InP, InAs, and InSb. Chemical trends are discussed.Bei der Beschreibung von Defekten (Storstellen, Oberflachen, UJW.) im Rahmen der ETBM erweist sich als nachteilig, daB bereits die TB-Parameter des ungestorten Kristalles nicht eindeutig definiert sind, wenn sie allein durch Anpassung an gegebene Bandstrukturen bestimmt werden. Eine solche Unbestimmtheit ubertragt sich auf die Defekteigenschaften sowohl durch das ungestorte Problem als auch durch das Defektpotential. Es wird vorgeschlagen, diese Schwierigkeiten dadurch zu uberwinden, da8 diagonale TB-Parameter und orbitale Populationen stets selbstkonsistent bestimmt werden. In dieser Arbeit wird als erster Schritt dazu eine Methode zur Konstruktion solcher ladungsselbstkonsistenter TB-Parametersatze fur den reinen Rristall im Rahmen einer speziellen Anpassungsprozedur entwiclrelt, die Wechselwirkungen bis zu zweitnachsten Xachbarn einschlieat. Mit dieser zusltzlichen Selbstkonsistenzforderung werden Bandstrukturen erhalten, die sogar besser sind als die, die mit anderen Parametrisierungen erhalten werden. Die Methode wird auf die 111-V-Verbindungshalbleiter Gap, GaAs, GaSb, InP, Inks und InSb angewendet . Chemische Trends werden diskutiert.