2006
DOI: 10.1016/j.tsf.2006.01.061
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

CrAlN coatings deposited by cathodic arc evaporation at different substrate bias

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1

Citation Types

6
53
0
3

Year Published

2008
2008
2019
2019

Publication Types

Select...
7
1

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 98 publications
(62 citation statements)
references
References 14 publications
6
53
0
3
Order By: Relevance
“…Mikrotwardość wyznaczano dla głębokości wnikania wgłębnika w powłokę równą 0,3 μm. Przed pomiarami zastosowano procedurę przygotowania powierzchni próbek opisaną w pracy [4].…”
Section: Część Doświadczalnaunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Mikrotwardość wyznaczano dla głębokości wnikania wgłębnika w powłokę równą 0,3 μm. Przed pomiarami zastosowano procedurę przygotowania powierzchni próbek opisaną w pracy [4].…”
Section: Część Doświadczalnaunclassified
“…Zastosowanie wyższego napięcia polaryzacji podłoża powoduje zmniejszanie grubości powłoki. Wyniki te są zgodne z danymi prezentowanymi w pracy [4].…”
Section: Wyniki Badań I Dyskusjaunclassified
“…Owing to excellent oxidation resistance as well as good chemical stability, mechanical and tribological properties, the researches are particularly attracted by TiAlN and CrAlN materials [11,[13][14][15][16][17][18].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…[1][2][3][4] For such kinds of materials, numerous works focus on how to obtain good mechanical properties by optimizing experimental parameters, such as bias voltage and gas flow ratio. [5][6][7][8][9] In fact, the microstructure of thin films determines their mechanical properties. Therefore, analysis of microstructure contributes to having a better understanding of the mechanical properties of thin films.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%