Desenvolvimento de filmes de silicio-germanio para aplicações em dispositivos MOS

Abstract

Registro um agradecimento especial ao meu orientador, Prof. Dr. Ioshiaki Doi, e aos funcionários e amigos Eduardo A. Zambotti e Regina M. A. G. Floriano, pelo apoio e dedicação além do que lhes eram exigidos. Este trabalho não teria terminado sem a ajuda de diversas pessoas e instituições às quais presto minha homenagem: -Ao Prof. Dr. Jacobus W. Swart (FEEC -UNICAMP), pela oportunidade oferecida; -À Dr.ª Maria B. P. Zakia e ao Prof. Dr. José A. Diniz, (CCS -UNICAMP) pelo apoio e proveitosas discussões acerca do trabalho sendo desenvolvido; -Ao CCS -UNICAMP e todo o seu corpo de funcionários pela infra-estrutura, sem o qual este trabalho não seria possível.