A generalization of the energy-loss transport concept, which includes carrier-carrier-scattering, is applied to a thin (two-dimensional) Bi-film deposited on an e.g. CaF,-substrate. I n particular, scattering by ions is considered and by charge density fluctuations. An additional scattering channel is taken into account by a scattering frequency wz. If the concentrations of electrons and holes are about equal, the resulting resistance of the Bi-film a t not too low temperatures is governed by scattering by fluctuations.Eine Verallgemeinerung des Energieverlust-Transportkonzepts, die die Trager-Trager-Streuung einschliellt, wird auf einen diinnen (zweidimensionalen) Bi-Film auf einem z. B. CaF,-Substrat angewandt. Insbesondere wird die Streuung an Ionen und Ladungstragerdichte-Fluktuationen betrachtet; ein zusatzlicher Streukanal wird durch eine Streufrequenz w, beriicksichtigt. Wenn die Konzentrationen von Elektronen und Lochern etwa gleich sind, wird der resultierende Widerstand des Bi-Films bei nicht zu tiefen Temperaturen wesentlich durch die Streuung an Fluktuationen bestimmt.