Einfluß der Behandlungstemperatur beim plasmaunterstützten Gasphasenborieren mittels BCl₃

Abstract

Der Einfluß der Temperatur beim Plasmaborieren in einer BCl3‐H2‐Ar‐Gasatmosphäre auf das Borierergebnis wird durch Anwendung der optischen Emissionsspektroskopie untersucht. Es werden verschiedene Teilchenarten im Plasma identifiziert. Eine besondere Wirkung auf den Schichtaufbau hat das Teilchendichteverhältnis B*/Cl+*, das u.a. von der Behandlungstemperatur abhängt. Unter Berücksichtigung der Entladungsbedingungen gelingt es durch Stufung der Temperatur korrosive Reaktionen an der Substratoberfläche weitgehend zu unterdrücken und porenfreie Boridschichten zu erzeugen.