Electron-beam lithography of plasmonic nanorod arrays for multilayered optical storage

Taylor, Adam B.; Michaux, P.; Mohsin, Abu S. M.; Chon, James W. M.

doi:10.1364/oe.22.013234

Cited by 58 publications

(37 citation statements)

References 15 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…5, a silver dot is present on the top of each pillar in the pattern and the stacked structure consists of five layers. This kind of structure can be used in a plasmonic memory [7,8].…”

Section: Fig 3 An Ltil Process With Several Resin-removal Stagesmentioning

confidence: 99%

Outline of Liquid-Transfer Imprint Technology and Advanced Processes

Taniguchi

Unno

2015

J. Photopol. Sci. Technol.

View full text Add to dashboard Cite

Nanoimprint lithography can be used as a tool for semiconductor lithography. However, problems still remain in respect of the thickness of the residual layer. Liquid-transfer imprint lithography (LTIL) is one candidate for solving such problems. The principle of LTIL involves partial removal of the UV-curable resin in the liquid phase, permitting control of the thickness of the resin layer on the film mold. After removal of the excess resin, the film mold with a thin layer of UV-curable resin is contacted with the target substrate. This process is very simple, permitting its application in various methods and with various types of equipment, such as roll-to-substrate, roll press, or roll-to-roll machinery. Several types of resin-removal and stacking methods are possible. The machinery and associated techniques have a wide range of applications. LTIL has considerable potential, because transfer with no residual layer is possible, a result that is very useful in semiconductor lithography.

show abstract

“…5, a silver dot is present on the top of each pillar in the pattern and the stacked structure consists of five layers. This kind of structure can be used in a plasmonic memory [7,8].…”

Section: Fig 3 An Ltil Process With Several Resin-removal Stagesmentioning

confidence: 99%

Outline of Liquid-Transfer Imprint Technology and Advanced Processes

Taniguchi

Unno

2015

J. Photopol. Sci. Technol.

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Стекла с наночастицами металлов находят при-менение в качестве цветных оптических фильтров, нелинейно-оптических сред [1][2][3][4][5] и сред для записи оп-тической информации [6][7][8]. В ряде работ теоретически показано [9][10], что прозрачные среды с наночастицами металлов могут обладать свойствами метаматериалов, и на их основе могут быть созданы суперлинзы [10][11][12].…”

Section: Introductionunclassified

Формирование Наночастиц Щелочных Металлов В Щелочно-Силикатных Стеклах При Электронном Облучении И Термообработке

Бочкарева¹,

Сидоров²,

Игнатьев³

et al. 2017

Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

Экспериментально и методами численного моделирования показано, что при облучении щелочно-содер-жащих стекол электронами с энергией 35 keV и последующей термообработке выше температуры стекло-вания в них формируются сферические металлические наночастицы лития, натрия и калия с оксидными оболочками, обладающие плазмонными резонансами в видимой области спектра. В стеклах, содержащих два щелочных металла, наблюдается взаимное влияние металлов на формирование наночастиц двух составов, что связано с различием ионных радиусов и подвижностей ионов этих металлов. [17][18][19][20]. Достоинством последнего метода явля-ется то, что наночастицы металла диаметром 5−10 nm могут быть сформированы в стекле локально, в том числе в нанометровых масштабах.Основными механизмами формирования наночастиц металлов в стеклах при электронном облучении яв-ляются [18]: (i) образование области отрицательного объемного заряда под поверхностью стекла за счет торможения быстрых электронов; (ii) полевая миграция подвижных положительных ионов металла в область отрицательного заряда; (iii) восстановление ионов ме-талла термализованными электронами до нейтрального состояния; (iv) формирование металлических наноча-стиц из атомов металла.Как правило, в неорганических стеклах синтезируют наночастицы благородных металлов (Ag, Au, Pt) и меди. В то же время наночастицы щелочных металлов, име-ющие плазмонные резонансы в видимой области спек-тра [21], также представляют практический интерес для создания нелинейно-оптических сред и сред для записи оптической информации. В работах [22][23][24] показано, что при γ-облучении кристаллов LiF и последующей термообработке в них формируются металлические на-ночастицы Li, обладающие плазмонным резонансом на длине волны 550 nm. В кристаллах NaF аналогичным методом могут быть сформированы наночастицы Na [24]. В работе [25] показано, что при синтезе натриево-содер-жащих фторфосфатных стекол в восстановительных условиях в стекле формируются наночастицы натрия. В работе [26] экспериментально показано, что наноча-стицы натрия, обладающие плазмонным резонансом на длине волны λ = 405−410 nm, могут быть сформирова-ны в натриево-силикатном стекле с помощью электрон-ного облучения и последующей термообработки выше температуры стеклования. Методами численного моде-лирования в настоящей работе установлено, что нано-частицы состоят из сферического ядра из твердого или жидкого натрия, и содержат оболочку из оксида натрия, окруженную внешней вакуумной или газовой оболочкой.Целями настоящей работы было экспериментальное исследование возможности синтеза наночастиц лития, натрия и калия в щелочно-содержащих силикатных стеклах электронно-лучевым методом, а также изучение особенностей структуры и других особенностей таких наночастиц методами оптической спектроскопии и чис-ленного моделирования. 6 * 243

show abstract

“…There is a growing demand for a nanoscale metal disc stacking technique to fabricate next-generation devices such as plasmonic devices, metamaterials, and memory devices [1][2][3]. In particular, complex three-dimensional (3D) structure is difficult to fabricate.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Metallic Color Filter Fabrication using Photo-Curable Polymer Stacking

Taniguchi

Tsuji

2016

J. Photopol. Sci. Technol.

View full text Add to dashboard Cite

Nanoimprint lithography (NIL) can be used as a tool for three-dimensional nanoscale fabrication. In particular, complex metal pattern structures in polymer material are demanded as plasmonic effect devices and metamaterials. To fabricate of metallic color filter, we used silver ink and liquid-transfer imprint lithography (LTIL) techniques. Metallic color filter was composed of stacking of nanoscale silver disc patterns and polymer layers, thus, controlling of polymer layer thickness is necessary. To control of thickness of polymer layer, we used spin-coating of UV-curable polymer and LTIL process. To obtain silver disc pattern, we used silver ink, Ultraviolet NIL technique and LTIL process. As a result, ten stacking layers with 1000 nm layer thickness was obtained and red color was observed. The obtained colors are generated from plasmon phenomenon. This process is very useful to make stacking structure without vacuum environment. Keyword: liquid-transfer imprint lithography, nanoimprint lithography, UV-curable resin, metallic color filter, silver ink IntroductionThere is a growing demand for a nanoscale metal disc stacking technique to fabricate next-generation devices such as plasmonic devices, metamaterials, and memory devices [1][2][3]. In particular, complex three-dimensional (3D) structure is difficult to fabricate. Stacking these metal structures in transparent resin and insulators is usually achieved with lithographic patterning, metal deposition, and a lift-off process: the desired pattern of resin is first fabricated on the substrate, the metal layer is then deposited by thermal evaporation or sputter coating, and the resin is removed by chemical dissolution. Resin patterning is typically performed using electron beam lithography (EBL) or nanoimprint lithography (NIL) [4], but for further efficient fabrication, NIL can also be used to transfer both the metal patterns and the intermediate resin layer. However, it is difficult to control the thickness of the intermediate resin layer with this technique. To improve this issue, we have developed efficient process by using liquid transfer imprint lithography (LTIL)

show abstract

Electron-beam lithography of plasmonic nanorod arrays for multilayered optical storage

Cited by 58 publications

References 15 publications

Outline of Liquid-Transfer Imprint Technology and Advanced Processes

Outline of Liquid-Transfer Imprint Technology and Advanced Processes

Формирование Наночастиц Щелочных Металлов В Щелочно-Силикатных Стеклах При Электронном Облучении И Термообработке

Metallic Color Filter Fabrication using Photo-Curable Polymer Stacking

Contact Info

Product

Resources

About