The change of polariton dispersion is investigated theoretically if a large number of polaritons is present at frequencies near half the biexciton energy. A renormalization process takes place for polaritons via virtual formation of biexcitons and stimulated by the intense polariton distribution. Assuming a n energetically sharp distribution as is realised e.g. by dye laser excitation the original polariton dispersion is shown t o split into two new branches. These effects should manifest if e.g. an additional but weak probe light is used to testify the optical properties of the laser excited orystal. Furthermore the scattering lines of the two-photon resonance Raman process via biexcitons are characteristically modified due to both selfrenormalization of the incoming polaritons and renormalization of the scattered polaritons. Explicit results are presentedfor CuCl where agreement with experimental data recently published is found.Die Veranderung der Polaritondispersion wird theoretisch fur den Fall untersucht, daB eine groBe Zahl von Polaritonen bei Frequenzen um die halbe Biexcitonenenergie herum vorhanden ist. Ein RenormierungsprozeB fur Polaritonen iiber virtuelle Biexzitonbildung findet statt und wird durch die starke Polaritonverteilung stimuliert. Unter der Annahme einer energetisch scharfen Verteilung, wie es z. B. bei der Anregung mit einem Farbstofflaser der Fall ist, wird die urspriingliche Polaritondispersion in zwei neue Zweige zerlegt. Diese Effekte sollten sich z. B. dann 5ul3ern, wenn zusatzliches schwaches Probelicht zur Untersuchung der optischen Eigenschaften des durch den Laser nngeregten Kristalls benutzt wird. Weiterhin werden die Streulinien des Zwei-Photon-ResonanzRaman-Prozesses uber Biexzitonen charakteristisch modifiziert, sowohl durch die Selbstrenormierung der einfallenden Polaritonen als auch durch die Renormierung der gestreuten Polaritonen. Explizite Resultate werden fur CuCl vorgelegt, wobei eine ifbereinstimmung mit kurzlich publizierten experimentellen Werten gefunden wird.