Amorphous Si,Ge,O, alloy films with x = 0.17 to 0.60, y = 0.19 to 0.68, and z = 0.11 to 0.42 are deposited using reactive dc magnetron sputtering in an Ar/water atmosphere. The alloy concentrations are measured by secondary neutral mass spectrometry (SNMS). The oxygen content strongly decreases with decreasing silicon concentration. The dependence of the alloy composition on the target coverage with germanium pieces is investigated. IR transmission measurements in the range from 400 to 4000 cm-' show a predominance of the Si-0-Si asymmetric stretching mode. The minor absorption band due to Ge-0-Ge stretching vibrations totally disappears after annealing the film at 800 "C. An increase of the Si-0-Si absorption mode is detected.Amorphe Si,Ge,O, Filme (mit x = 0,17 bis 0,60, y = 0,19 bis 0,68 und z = 0,ll bis 0,42) werden mit reaktivem DC-Magnetron Sputtern unter ArlWasserdampf-Atmosphare hergestellt. Die Konzentration der Legierungselemente wird mittels Sekundarneutralteilchenmassenspektroskopie untersucht. Mit der Abnahme der Silizium-Konzentration wird eine starke Verringerung des Sauerstoffgehaltes der Legierungen festgestellt. Die Abhangigkeit der Veranderung der Legierungszusammensetzung von der Targetbedeckung mit Germanium wird untersucht. IR-Transmissionsmessungen im Bereich von 400 his 4000 cm-zeigen eine Dominanz der asymmetrischen Si-0-Si Streckschwingung. Die schwache Absorptionsbande der Ge-0-Ge Streckschwingungen verschwindet nach dem Tempern auf 800 "C vollstandig und eine VergroBerung der Si-0-Si Absorptionsbande wird festgestellt.