“…Methods of ionization fall broadly into two categories, either continuous or pulsed. The most prevalent continuous ionization sources used for ion soft landing include electron impact ionization (EI) (Pradeep et al, ; Biesecker et al, ; Wijesundara et al, ; Bottcher et al, ), electrospray ionization (ESI) (Feng et al, ; Ouyang et al, ; Alvarez et al, ; Volny & Turecek, ; Mazzei et al, ; Hamann et al, ; Hauptmann et al, ), direct current (DC) or radiofrequency (RF) magnetron sputtering combined with gas aggregation (Haberland et al, , , ; Barnes et al, ; Pratontep et al, ; Tanemura et al, ; Lim et al, ; Duffe et al, ; Watanabe & Isomura, ; Gracia‐Pinilla et al, ; Nielsen et al, ; Wepasnick et al, ; Hartmann et al, ; Ludwig & Moore, ; Yin et al, ), high energy ion sputtering (Lapack et al, ; Harbich et al, ; Dong et al, ; Bromann et al, ; Fedrigo et al, ; Schaffner et al, ; O'Shea et al, ; Yamaguchi et al, ; Lau et al, ), and gas condensation/aggregation (GC) (Patil et al, ; Goldby et al, ; Yoon et al, ; Baker et al, ). Soft landing has also been accomplished using various pulsed ionization methods including matrix‐assisted laser desorption ionization (MALDI) (Rader et al, ), laser ablation/vaporization (Honea et al, ; Messerli et al, ; Pauwels et al, ; Klingeler et al, ; Heiz & Bullock, ; Melinon et al, ; Kemper et al, ; Mitsui et al, ; Winans et al, ; Cattaneo et al, ; Kaden et al, ; Davila et al, ; Tournus et al, ; Wepasnick et al, ; Woodward et al, ), the pulsed arc cluster ion source (PACIS) (Siekmann et al,…”