Исследован процесс интеркаляции кобальта под однослойный графен, выращенный на монокристал-лической пленке Ni(111). Эксперименты проведены в условиях сверхвысокого вакуума. Характеризация образцов выполнена in situ методами дифракции медленных электронов, фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения и магнитного линейного дихроизма в фотоэмиссии Со 3p электронов. Получены новые данные об эволюции атомной, электронной структуры и магнитных свойств системы с увеличением толщины слоя интеркалированного кобальта в диапазоне до 2 nm. Показано, что в ходе интеркаляции под слоем графена образуется псевдоморфная эпитаксиальная пленка Со(111), обладающая перпендикулярной поверхности намагниченностью в аномально широком диапазоне толщин.Авторы признательны Helmholtz-Zentrum Berlin за возможность использования синхротронного излучения. И.И. Пронин благодарит Минобрнауки РФ за поддержку работы (задание 3.3161.2017 проектной части госзадания), Г.С. Гребенюк признателен РФФИ за финансовую поддержку (грант № 16-02-00387).