В обзоре систематизированы результаты исследований последних 25 лет в области получения и применения Cr-N-покрытий, создаваемых с помощью вакуумно-дуговых, магнетронных и ионно-стимулированных технологий. Проанализирована взаимосвязь между базовыми параметрами процессов, такими как давление рабочего газа, энергия ионов, степень ионизации, по-тенциал смещения и др., и структурно-фазовыми, механическими и трибо-логическими характеристиками покрытий. Выявлены характерные отли-чия в условиях получения покрытий CrN и Cr 2 N. Проведено сравнение экс-плуатационных свойств Ti-N-и Cr-N-покрытий.У даному огляді систематизовано результати досліджень за останні 25 ро-ків у галузі одержання та використання Cr-N-покриттів, які створюються за допомогою вакуумно-дугових, магнетронних та йонно-стимульованих технологій. Проаналізовано взаємозв'язок між базовими параметрами про-цесів, такими як тиск робочого газу, енергія йонів, ступінь йонізації, по-тенціял зміщення та ін., і структурно-фазовими, механічними та триболо-гічними характеристиками покриттів. Виявлено характерні відмінності в умовах створення покриттів CrN та Cr 2 N. Виконано порівняння експлуата-ційних властивостей Ti-N-та Cr-N-покриттів.The investigation results concerning fabrication and application of Cr-N coatings, which are produced by the vacuum-arc evaporation, magnetron sputtering, and ion beam-assisted deposition, are systematized. The links between base parameters of these processes such as gas pressure, ion energy, ionization degree, bias potential and structure, mechanical, and tribological characteristics are analyzed. The characteristic differences of fabrication conditions for CrN and Cr 2 N coatings are revealed. The comparison of performance attributes of Ti-N and Cr-N coatings is carried out.Ключевые слова: покрытия Cr-N и Ti-N, вакуумно-дуговое испарение, магнетронное распыление, ионно-стимулированное осаждение.Успехи физ. мет. / Usp. Fiz. Met. 2005, т. 6, сс. 197-232 Îòòèñêè äîñòóïíû íåïîñðåäñòâåííî îò èçäàòåëÿ Ôîòîêîïèðîâàíèå ðàçðåøåíî òîëüêî â ñîîòâåòñòâèè ñ ëèöåíçèåé 2005 ÈÌÔ (Èíñòèòóò ìåòàëëîôèçèêè èì. Ã. Â. Êóðäþìîâà ÍÀÍ Óêðàèíû) Íàïå÷àòàíî â Óêðàèíå.
