Традиционные подходы к схемотехническому моделированию оди-ночных эффектов при воздействии тяжелых заряженных частиц (ТЗЧ) в КМОП СБИС, основанные на использовании двухэкспоненциальной мо-дели импульса тока ионизационной реакции, оказываются не всегда при-менимыми при переходе к суб-100-нм проектным нормам.Представлен обзор основных подходов к решению двух главных за-дач, возникающих при схемотехническом моделировании одиночных эф-фектов в суб-100-нм СБИС: учет влияния электрического режима на про-цесс формирования импульса ионизационного отклика и учет собирания заряда с трека ТЗЧ несколькими чувствительными элементами. В качестве решения первой задачи предложены подходы, основанные на использова-нии кусочно-линейного задания импульса тока на основе TCAD-расчетов, сдвоенного двухэкспоненциального источника тока и источника тока, учитывающего электрический режим транзистора. Рассмотрены способы моделирования ионизационного отклика нескольких элементов от одной ТЗЧ на основе использования lookup-таблиц и аналитических моделей за-висимости ионизационного отклика от места попадания частицы.Проведенный анализ современных подходов к моделированию эф-фектов сбоев и импульсов ионизационной помехи в КМОП-микросхемах позволяет заключить, что наиболее гибким и физически точным является подход, основанный на использовании источника тока, учитывающего электрический режим транзистора и встраиваемого в Verilog-A код исход-ной модели.