При нагріванні реактивного флюсу системи KF-AlF 3-K 2 SiF 6 на алюмінієвій підкладці відбуваються два процеси: відновлення силіцію зі складу гексафторсилікату калію; контактно-реактивне топлення силіцію з алюмінієм. У результаті на реакційній поверхні формується шар зі стопу Al-Si, склад якого близький до заевтектичного, що підтверджено результатами мікрорентґеноспектрального аналізу. Мікроструктура закристалізованого металічного шару Al-Si містить зерна твердого розчину на основі Алюмінію і заевтектичну складову з концентрацією Силіцію (% мас.): 17,18 у міжзеренних ділянках, а також окремі дискретні вкраплення пластівчастої фази, що за стехіометричним складом близька до сполуки FeSiAl 5. Проведені порівняльні експерименти на графітовій підкладці показали, що вміст Силіцію у залишках флюсу після нагрівання відповідає його вмісту у вихідному складі флюсу. Ключові слова: реактивний флюс системи KF-AlF 3-K 2 SiF 6 , контактне топлення, Силіцій, Алюміній, металічний шар Al-Si. When heating the reactive flux of the KF-AlF 3-K 2 SiF 6 system on an aluminium substrate, two processes occur; reduction of silicon from potassium hexafluorosilicate; contact-reactive melting of silicon with aluminium. As a result, an Al-Si alloy layer is formed on the reaction surface, the composition