2008
DOI: 10.1016/j.sna.2007.11.022
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On the wet etching of Pyrex glass

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“…Glass is a mixture of oxides whose composition affects etching behavior. 45 It is preferable to use glass with a low content of any oxides that give insoluble products after reaction with HF. Such oxides include CaO, MgO, and Al 2 O 3 .…”
Section: Wet Etchingmentioning
confidence: 99%
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“…Glass is a mixture of oxides whose composition affects etching behavior. 45 It is preferable to use glass with a low content of any oxides that give insoluble products after reaction with HF. Such oxides include CaO, MgO, and Al 2 O 3 .…”
Section: Wet Etchingmentioning
confidence: 99%
“…63 A detailed analysis of masking materials used in wet etching of glass is presented in Ref. 45. The use of a photoresist mask is limited to shallow etching (up to a 2-min etching process in 49% HF).…”
Section: Wet Etchingmentioning
confidence: 99%
“…유리는 취성재료로서 크랙 전파가 임의의 방향으로 진행되어 유 리의 절단기술은 매우 흥미로운 주제다 [1] . 이 유리절단 방법에는 다이아몬드툴 같은 공구를 사용하는 기계적인 방법 [4][5][6] , 워터젯을 이용한 방법 [7,8] , 화학 에칭방법 [9,10] 그리고 레이저를 이용한 레이 저 절단방법 등이 있다 [11][12][13][14][15][16][17][18][19] . 현재 상용화된 방법은 기계적 절단 방법으로 절단날을 사용하는 연삭절단 방법과 다이아몬드 스크라 이빙 휠을 이용한 굽힘절단 방법이 있다 [20] .…”
Section: 서 론unclassified
“…Alternativas como uso de fotoresiste espesso, carbeto de silício, cobre e silício-poli também são citados. Para corrosões por plasma, o uso de Níquel é o mais conhecido [23,24,25,26] .…”
Section: Obtenção Dos Microcanaisunclassified
“…A terceira etapa envolve a corrosão do vidro, que pode ser por via seca [27] ou úmida [23,24,25] . A corrosão seca envolve o uso de plasmas, tendo como base fenômenos físico-químico, como colisões de íons reativos com moléculas dos gases utilizados que interagem então com a superfície do vidro.…”
Section: Obtenção Dos Microcanaisunclassified