Optimization of the Task of Determining the Conditions for Effective Photochemical Subnanopolishing of the Rough Surface of the Quartz for Lighting from the Side of the Quartz

Abstract

to 20 nm). It is also shown what the criteria are, at which a regular profile in the form of triangular protrusions and troughs can be used as equivalent in defining the optimal field parameters for a random surface profile characterized by the Gaussian correlation function.Ключові слова: поверхневий плазмонний резонанс, розсіяння пласких електромагнетних хвиль, векторне Гельмгольцове рівняння, фотохемічне полірування, еванесцентне поле, цілковите внутрішнє відбивання.