Penelitian ini bertujuan untuk menganalisis pengaruh rapat arus terhadap komposisi dan morfologi permukaan lapisan komposit Ni-TiN yang telah terbentuk. Proses pelapisan ini menggunakan metode elektrodeposisi selama 30 menit dan suhu sebesar 45℃ pada substrat Tungsten Karbida dengan komposisi larutan elektrolit yang terdiri dari NiCl2.6H2O 0.17 M, NiSO4.6H2O 0.38 M, TiN 6 gr/L, H3BO3 0.49 M, dan Sodium Dodecyl Sulfate (SDS) 0,6 gr/L. Elektroda yang digunakan yaitu Platina (Pt) sebagai elektroda pembanding dan Tungsten Karbida (WC) sebagai elektroda kerja. Variasi rapat arus yang digunakan yaitu 0,4 mA/mm 2 , 0,6 mA/mm 2 dan 0,8 mA/mm 2 . Selanjutnya, dilakukan karakterisasi morfologi dengan menggunakan Scanning Electron Microscopy (SEM). Hasil menunjukkan semakin meningkatnya rapat arus maka morfologi permukaan lapisan akan semakin halus, dan untuk komposisi yang diuji menggunakan Energy Dispersive X-Ray Spectroscopy (EDS) yaitu mendapatkan hasil unsur yang terdeteksi seusai dengan yang direncanakan seperti Ni dan TiN.