2012
DOI: 10.1016/j.apsusc.2012.04.175
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Photoluminescence of silicon nanostructures prepared via hydrothermal growth progress

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“…Por el momento, se han realizado muchos intentos para preparar SiNS a través de esta tecnología de crecimiento. Los procesos de incremento hidrotermal se pueden llevar a cabo en diferentes condiciones, seguidas de un grabado con HF para controlar el espesor del revestimiento de sílice[19].Otra técnica empleada de gran importancia es el grabado químico asistido por metal, este consiste en una técnica simple, rápida y efectiva que permite obtener una amplia gama de nanoestructuras de silicio en una gran superficie, desde nanocables hasta paredes de poro continuo o coalescencia de múltiples alambres, teniendo obleas de silicio completas. En este proceso se puede emplear una solución de HF y AgNO 3 u Au donde se genera una deposición rápida del metal el cual genera un grabado de nanoestructuras bien alineadas (o nanohilos) en el Si; si el grabado es asistido por un metal como…”
unclassified
“…Por el momento, se han realizado muchos intentos para preparar SiNS a través de esta tecnología de crecimiento. Los procesos de incremento hidrotermal se pueden llevar a cabo en diferentes condiciones, seguidas de un grabado con HF para controlar el espesor del revestimiento de sílice[19].Otra técnica empleada de gran importancia es el grabado químico asistido por metal, este consiste en una técnica simple, rápida y efectiva que permite obtener una amplia gama de nanoestructuras de silicio en una gran superficie, desde nanocables hasta paredes de poro continuo o coalescencia de múltiples alambres, teniendo obleas de silicio completas. En este proceso se puede emplear una solución de HF y AgNO 3 u Au donde se genera una deposición rápida del metal el cual genera un grabado de nanoestructuras bien alineadas (o nanohilos) en el Si; si el grabado es asistido por un metal como…”
unclassified
“…So it is of interest to synthesis silica rods using simple method and instruments. Recently many people have devoted numerous efforts to prepare silica materials of sizes from nanometers to micrometers and different methods have been used, such as thermal evaporation method [11], hydrothermal method [12], anodized aluminum oxide(AAO) method [13] and sol-gel method [14]. Thermal evaporation method and hydrothermal method require high temperature, high pressure and expensive equipment.…”
Section: Introductionmentioning
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