1993
DOI: 10.7567/jjaps.32s3.515
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Photopleochroism of GaPxAs1-x Surface-Barrier Structures

Abstract: The proposed work reported here constitutes the first investigation of the polarimetric effects in III-V surface-barrier structures of metal-semiconductor (Au-n-GaP x AS1-x , Au-n-GaP) type, illuminated with linearly polarized radiation (LPR) at oblique incidence on the entrance plane (Au). As the angle θ increases the coefficient of photopleochroism increases as P∼θ2. The maximum azimutal photosensitivity of the Au-n-GaP x … Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

1997
1997
2021
2021

Publication Types

Select...
6

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 14 publications
(1 citation statement)
references
References 0 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…На одной поверхности GaP создавался омический контакт 97% In+3% Te. На другой поверхности сначала формировался промежуточный туннельно-прозрачный палладиевой слой (Pd) толщиной 20-30 Å, затем создавался барьерный контакт нанослоя золота (Au) толщиной 100-120 Å. Промежуточный слой Pd и барьерный контакт (БК) создавались химическим методом[6,7].…”
unclassified
“…На одной поверхности GaP создавался омический контакт 97% In+3% Te. На другой поверхности сначала формировался промежуточный туннельно-прозрачный палладиевой слой (Pd) толщиной 20-30 Å, затем создавался барьерный контакт нанослоя золота (Au) толщиной 100-120 Å. Промежуточный слой Pd и барьерный контакт (БК) создавались химическим методом[6,7].…”
unclassified