Методом спектроскопии адмиттанса исследованы состояния дырок в квантовых ямах Si 0.7−y Ge 0.3 Sny /Si в диапазоне содержания олова y = 0.04−0.1. Установлено, что энергия связи дырки растет с увеличением содержания олова. В рамках 6-зонного kp-метода определены энергии размерного квантования дырок в структурах, содержащих псевдоморфный слой Si 0.7−y Ge 0.3 Sny в матрице Si. Комбинацией результатов математического моделирования и экспериментальных данных определена величина разрыва валентной зоны на гетерогранице Si/Si 0.7−y Ge 0.3 Sny . Установлено, что зависимость экспериментальных значений разрыва валентных зон между псевдоморфными слоями Si 0.7−y Ge 0.3 Sny и Si от содержания олова описывается выражением E exp V = (0.21 ± 0.01) + (3.35 ± 7.8 · 10 −4 )y эВ.