Приводятся результаты исследования фоточувствительности гетеропереходной Au-νGaAs:O[1]nCdS-nInP-Au структуры при различных режимах включения. Экспериментально показано, независимо от возбуждаемой поверхности, они отличаются фоточувствительностью в спектральном диапазоне 0.85−0.9 мкм и 1.31−1.55 мкм, что связано с фотогенерационными процессами в высокоомном арсениде галлия и фотоэмиссионными процессами из металла в полупроводник.