Plasmachemische Gasphasenabscheidung und Plasmaätzen bei Atmosphärendruck

Abstract

Plasmaprozesse werden für eine Vielzahl von Oberflächenmodifizierungen eingesetzt, typische Beispiele sind Beschichtungen für einen verbesserten Korrosions‐ und Kratzschutz oder die Oberflächenreinigung und ‐texturierung. Da diese Prozesse jedoch in der Regel im Vakuum ablaufen, sind sie für viele großflächige industrielle Anwendungen nicht anwendbar. Plasmagestützte CVD‐Prozesse bei Atmosphärendruck (AP‐PECVD) ermöglichen die Herstellung von Bauteilen und Halbzeugen mit Funktionsschichten im Durchlaufverfahren ohne kostenintensiven Einsatz von Vakuumanlagen. Durch Integration in in‐line‐Produktionsprozesse reduzieren sich Substrathandhabungs‐ und Beschichtungskosten.Eine thermische Plasmaquelle, basierend auf einer linear ausgedehnten DC‐Bogenentladung bei Atmosphärendruck, wurde für einen kontinuierlichen PECVD‐Prozess zur Abscheidung von Siliziumnitrid bei Substrattemperaturen unterhalb von 300 °C sowie zum plasmachemischen Ätzen und Texturieren von Silizium untersucht.

Hydrophobic glass and paper coatings based on plasma polymerized vegetable oils using a novel atmospheric pressure plasma concept

“…While for plasma surface activation only compressed air is required, the composition of which largely corresponds to that of the drag air, PECVD processes usually require inert gas mixtures of argon and nitrogen, which are additionally enriched with a precursor such as hexamethyldisiloxane or hexamethyldisilazane. [ 3,6–8 ] Contamination with drag air may then impede reproducibility and must therefore be avoided. To realize a stable and reproducible discharge volume and to counteract the adversities of industrial inline processes, we apply a novel discharge concept in the context of the studies discussed here.…”