Radical concentration and efficiency of secondary photochemical reactions in modified polystyrene

Abstract

The influence of acrylonitrile-butadiene-styrene-terpolymer (ABS) and methyl methacrylate-butadiene-styrene-terpolymer (MBS) modifying the polystyrene (PS) films on its resistance to UV radiation were investigated.On the basis of the results of ESR, IR, UV, mass spectroscopy, viscosimetric and solubility measurements it was found that 3% of ABS or MBS in polystyrene films have a clear influence on the course of photochemical processes. After UV-irradiation of the samples, at the presence of this terpolymers, a greater concentration of free radicals with shorter half-life times was observed.Both terpolymers increase the productivity of photooxydation of polystyrene as well as its crosslinking and decrease its dehydrogenation. ZUS AMMENFASSUNG:Es wurde der EinfluB der durch Terpolymere modifizierten Polystyrolfilme auf ihre Widerstandsfahigkeit gegenuber UV-Strahlung untersucht.ESR, IR, UV, Massenspektroskopie sowie Viskositats-und Loslichkeitsmessungen ergeben, daB 3% ABS oder MBS in den Polystyrolfilmen einen bedeutenden EinfluB auf die photochemischen Prozesse hat. Proben mit Terpolymeren, die mit UV-Licht bestrahlt waren, weisen auf eine groBere Konzentration von Radikalen mit kurzerer Halbwertszeit hin. Beide Terpolymere bewirken eine hohere Ausbeute der Photooxidation und Vernetzung des Polystyrols und setzen seine Photodehydrierung herab.