1984
DOI: 10.1051/rphysap:01984001904029700
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Résistance du substrat de carbone au silicium fondu dans le procédé RAD

Abstract: Cet article présente les résultats d'une étude sur les origines de la réactivité des pyrocarbones lamellaires de haute température (PLHT) avec le silicium fondu. Les dépôts de PLHT constituent le revêtement protecteur d'un ruban de graphite souple utilisé comme support dans la croissance de couches minces de silicium par le procédé RAD dans le cadre d'applications photovoltaïques. Ce type de revêtement a été choisi en raison de sa non-réactivité avec le silicium fondu en l'absence de défauts de texture. Les ét… Show more

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