“…Следует отметить, что гибридная конструкция ВИЛ спектрального диапазона 1.55 µm на основе InAlGaAs квантовых ям (КЯ) требует не только применения сложной планарной технологии изготовления кристаллов и возможности осаждения диэлектрических слоев с высоким контрастом показателей преломления, но и предъявляет повышенные требования к качеству (шероховатость поверхности и резкость границ) интерфейсов РБО в силу падения коэффициента отражения из-за рассеяния света [11]. Это ограничивает минимально-достижимый уровень внутренних оптических потерь ВИЛ гибридной конструкции на 10 cm −1 [10]. Теоретически шероховатость интерфейсов эпитаксиальных нелегированных AlGaAs РБО существенно ниже шероховатости интерфейсов диэлектрических зеркал, однако уровень внутренних оптических потерь ВИЛ спектрального диапазона 1.3 µm на основе InAlGaAs КЯ, полученных методом спекания пластин гетероструктур, синтезированными методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений (ГФЭМО), лишь на 10% ниже потерь для ВИЛ гибридной конструкции [12], что, по-видимому, обусловлено размытием гетерограниц и неоптимальным профилем легирования структуры.…”